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2023-04
磁控溅射镀膜机的工艺过程
沉积功能薄膜的磁控射离子机中，采用辉光放电产生的氩离子清洗工件。即向镀膜室充入氩气，放电电压为 1000V左右，接通电源以后产生辉光放电，用氩离子轰击清洗工件。
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2023-03
光学薄膜在手机产品中的应用
光学薄膜在手机等消费电子产品中的应用由传统的摄像头镜片向多元化方向发展如摄像头镜头、镜头保护片、红外截止滤光片 (IR-CUT)、手机电池盖NCVM镀膜等。
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2023-03
CVD设备特点
CVD技术一般来说，具有如下一些特点:
1、设备的工艺操作都较简单、灵活性较强能制备出配比各异的单一或复合膜层和合金膜层；
2、CVD法的适用性较广泛，可制备各种金属或金属膜涂层；
3、因沉积速率可高达每分钟几微米到数百微米，因此生产效率高；
4、与PVD 法相比较绕射性好，非常适宜涂覆形状复杂的基体，如槽沟、涂孔甚至盲孔结构均可镀制成膜，涂层致密性好，由于成膜过程温度较高，膜基界面上的附着力很强，故膜层十分牢固
5、承受放射线辐射后的损伤较低，能与 MOS 集成电路工艺相融合。
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21
2023-03
真空镀膜机是做什么的？有什么作用？
所谓真空镀膜机工艺在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层，
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