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钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术

2009年，钙钛矿薄膜电池开始出现时转换效率仅为 3.8%，之后转换效率提升很快，到2018年时，实验室效率已经超过 23%。钙钛矿化合物的基本分子式为ABX3,A位置通常为金属离子，如 Cs+、Rb+，或者是有机官能团。

辉光放电离子镀膜技术的发展

辉光放电离子镀技术使膜层粒子总体能量升高，这个突出优点扩展了真空镀障技术的应用领域，成为 1963 年以来真空镀膜技术发展的热点。

离子镀膜的特点及用途

化学气相沉积技术简介

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)技术，简称CVD技术。它是利用加热、等离子体增强、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。

影响真空蒸镀性能的因素

1、蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。

磁控溅射镀膜机

柱状磁控溅射靶的优点

1) 比平面靶的靶材利用率高。在镀膜过程中，无论是旋磁型还是旋靶管型柱状磁控溅射靶，靶管表面各个部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射，靶材可以受到均匀的溅射刻蚀，靶材利用率高。靶材利用率高达80%~90%。

等离子清洗机

等离子体直接聚合工艺

无论是内电极式聚合设备，还是外电极式聚合设备，等离子体聚合的工艺过程相对简单，但是等离子体聚合中参数选择较为重要，因为等离子体聚合时参数对聚合薄膜的结构和性能影响较大。

CVD镀膜机

热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术

热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术采用热丝弧枪发射弧光等离子体简称热丝弧弧光PECVD 技术。

沉积硬质涂层的常规技术介绍

硬质涂层多是金属陶瓷涂层(TiN 等)，由涂层中的金属和反应气化合反应生成。最初是采用热 CVD 技术在 1000℃高温下由热能提供化合反应激活能，这样的温度只适合在硬质合金刀具上沉积 TiN 等硬质涂层，至今仍然是在硬质合金刀头上沉积 TiN-Al20复合涂层的重要技术。

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